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  • 09 2023-05 最新+
    半导体用高浓度臭氧发生器功能介绍 半导体用高浓度臭氧发生器功能介绍,臭氧浓度超过300mg/L。可用于半导体、ALD应用。... 查看更多>>
  • 31 2023-01 最新+
    半导体用臭氧水去除有机物质臭氧浓度需要达到多少 半导体用臭氧水去除有机物质臭氧浓度需要达到多少使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度利用臭氧的强氧化能力,可以实现分解并去除大量的杂质。根据杂质的形状与数量的不同,所需浓度也将有所变化,请参考下图数据。此外,如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用,去除杂质的... 查看更多>>
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